机译:用于在真空涂覆系统中对平面基板进行单侧涂覆的装置,包括:在真空涂覆系统的涂覆室中的涂覆源;以及框架,其具有光滑的下侧,容纳开口和内部轮廓
公开/公告号DE102010010287A1
专利类型
公开/公告日2010-12-02
原文格式PDF
申请/专利权人 VON ARDENNE ANLAGENTECHNIK GMBH;
申请/专利号DE20101010287
申请日2010-03-04
分类号C23C14/50;C23C14/56;
国家 DE
入库时间 2022-08-21 17:47:23