机译:基于这些过程的用于排出材料的设备和过程,用于制造滤色器的设备和过程,用于制造液晶装置的设备和过程,用于制造电气设备和电子设备的设备和过程
公开/公告号DE60238568D1
专利类型
公开/公告日2011-01-20
原文格式PDF
申请/专利权人 SEIKO EPSON CORP.;
申请/专利号DE20026038568T
申请日2002-01-11
分类号B41J2/01;G02F1/1335;B41J2/155;B41J2/21;G02B5/20;G02F1/13;H01L27/32;H01L51;H01L51/40;H05B33/10;
国家 DE
入库时间 2022-08-21 17:46:14