要解决的问题:在不干扰磁性多层膜的磁特性的情况下测量X射线磁性圆二色性,并观察层界面附近的磁特性或沿膜厚度方向的磁特性分布。
解决方案:控制入射角,以使磁性多层膜1中的驻波的电场强度E(a),E(b)由X射线5激发,以入射角入射,其中基于磁性多层膜1的层叠结构,通过干涉增强了反射X射线强度,在磁性多层膜1的层1a,1b之间的界面上具有最大强度。然后,将入射的X射线5相对于行进方向切换成顺时针圆偏振和逆时针圆偏振,并测定切换前后的X射线吸收率的差,从而测定出X射线的磁圆二色性。磁性多层膜1.通过入射角控制波腹和波的波腹的每个位置,并使最大电场强度的位置与被测界面一致,从而选择性地测量磁接口附近的特性。
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