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Y-Doped Barium Strontium Titanate For Stoichiometric Thin Film Growth

机译:Y掺杂的钛酸锶锶钡用于化学计量薄膜生长

摘要

Disclosed is a process for generating thin-film barium strontium titanate (“BST”) having a lattice comprised of a plurality of A lattice sites and a B lattice site, in which a yttrium may be found at a location of at least one location of the plurality of A lattice sites or the B lattice site. In one embodiment, the plurality of A lattice sites comprises a location for at least one from a group consisting of barium and strontium. In one embodiment, the B lattice site comprises a location for a titanium. A capacitor having the inventive Y-doped BST dielectric is also disclosed.
机译:公开了一种用于产生具有由多个A晶格位和一个B晶格位组成的晶格的薄膜钛酸锶锶薄膜(“ BST”)的方法,其中在至少一个晶格位置处可以发现钇。多个A晶格位点或B晶格位点。在一个实施例中,多个A晶格位点包括用于由钡和锶组成的组中的至少一个的位置。在一个实施例中,B晶格位点包括钛的位置。还公开了具有本发明的Y掺杂的BST电介质的电容器。

著录项

  • 公开/公告号US2012044610A1

    专利类型

  • 公开/公告日2012-02-23

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 TROY R. TAYLOR;CHRISTOPHER ELSASS;

    申请/专利号US201113284831

  • 发明设计人 TROY R. TAYLOR;CHRISTOPHER ELSASS;

    申请日2011-10-28

  • 分类号H01G5/013;C04B35/50;B32B9/04;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 17:32:01

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