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Method to measure the elastic modulus and hardness of thin film on substrate by nanoindentation

机译:纳米压痕法测量基材薄膜的弹性模量和硬度的方法

摘要

A method of measuring the elastic modulus and hardness of a thin film on substrate using nanoindentation technique is provided. The method includes calculating a series of experimental corrected stiffness and contact radius pairs associated with one or more presumed parameters and information obtained from a loading curve associated with the thin film and substrate. Also, the method includes calculating a series of theoretical corrected stiffness and contact radius pairs associated with the same one or more presumed parameters and information obtained from the loading curve associated with the thin film and substrate. Furthermore, the method includes using results obtained from the experimental and theoretical corrected stiffness and contact radius pairs to compute the elastic modulus and hardness of the film material.
机译:提供了一种使用纳米压痕技术测量基板上薄膜的弹性模量和硬度的方法。该方法包括计算与一个或多个假定参数相关联的一系列实验校正的刚度和接触半径对以及从与薄膜和基板相关联的载荷曲线获得的信息。而且,该方法包括计算与相同的一个或多个假定参数相关联的一系列理论校正的刚度和接触半径对以及从与薄膜和基板相关联的载荷曲线获得的信息。此外,该方法包括使用从实验和理论校正的刚度和接触半径对获得的结果来计算膜材料的弹性模量和硬度。

著录项

  • 公开/公告号US8265884B2

    专利类型

  • 公开/公告日2012-09-11

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 HAN LI;JOOST VLASSAK;

    申请/专利号US20090506648

  • 发明设计人 JOOST VLASSAK;HAN LI;

    申请日2009-07-21

  • 分类号B82Y30/00;G01N33/00;G01N3/42;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 17:31:47

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