;In the formula, R1 is a monovalent organic group having 14 to 30 carbon atoms, each R2, R3, and R4 is independently a monovalent organic group or a hydrolyzable group having 1 to 10 carbon atoms, and at least one of R2, R3, and R4 is a hydrolyzable group."/>
机译:待曝光基板的憎水组合物,抗蚀剂图案的形成方法,通过该形成方法制造的电子器件,对待曝光基板赋予防水性的处理方法,待曝光基板的憎水剂以及施水的处理方法使用相同的材料对要暴露的基材具有排斥性
公开/公告号US8178983B2
专利类型
公开/公告日2012-05-15
原文格式PDF
申请/专利权人 TAKEO ISHIBASHI;MIWAKO ISHIBASHI LEGAL REPRESENTATIVE;MAMORU TERAI;TAKUYA HAGIWARA;OSAMU YOKOKOJI;YOKO TAKEBE;
申请/专利号US20090867670
申请日2009-02-20
分类号H01L23/29;B05D3/02;
国家 US
入库时间 2022-08-21 17:29:27