首页> 外国专利> Mechanically stable diffusion barrier stack and method for fabricating the same

Mechanically stable diffusion barrier stack and method for fabricating the same

机译:机械稳定的扩散阻挡叠层及其制造方法

摘要

A mechanically stable diffusion barrier stack structure and method of fabricating the same is disclosed. The diffusion barrier stack structure having a molybdenum nitride layer deposited on a molybdenum layer and operates to prevent diffusion between a semiconductor layer and a metal interconnect. The method for fabricating includes depositing a molybdenum layer outwardly from the semiconductor layer in a deposition chamber, and depositing a molybdenum nitride layer outwardly from the molybdenum layer in the deposition chamber.
机译:公开了一种机械稳定的扩散阻挡叠层结构及其制造方法。该扩散阻挡叠层结构具有沉积在钼层上的氮化钼层,并且用于防止半导体层和金属互连之间的扩散。该制造方法包括在沉积室中从半导体层向外沉积钼层,以及在沉积室中从钼层向外沉积氮化钼层。

著录项

  • 公开/公告号US8138078B2

    专利类型

  • 公开/公告日2012-03-20

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 HALUK SANKUR;MASON THOMAS;

    申请/专利号US20080176162

  • 发明设计人 MASON THOMAS;HALUK SANKUR;

    申请日2008-07-18

  • 分类号H01L21/44;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 17:28:21

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号