首页> 外国专利> LOW LEAKAGE HIGH PERFORMANCE STATIC RANDOM ACCESS MEMORY CELL USING DUAL-TECHNOLOGY TRANSISTORS

LOW LEAKAGE HIGH PERFORMANCE STATIC RANDOM ACCESS MEMORY CELL USING DUAL-TECHNOLOGY TRANSISTORS

机译:使用双技术晶体管的低泄漏高性能静态随机存取存储器

摘要

A memory cell includes a storage element, a write circuit coupled to the storage element and a read circuit coupled to the storage element. At least a portion of the storage element and at least a portion of the write circuit are fabricated using a thicker functional gate oxide and at least a portion of the read circuit is fabricated using a thinner functional gate oxide.
机译:存储单元包括存储元件,耦合到该存储元件的写电路以及耦合到该存储元件的读电路。使用较厚的功能性栅极氧化物来制造存储元件的至少一部分以及写入电路的至少一部分,并且使用较薄的功能性栅极氧化物来制造读取电路的至少一部分。

著录项

  • 公开/公告号IN2011MN01293A

    专利类型

  • 公开/公告日2012-08-17

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人

    申请/专利号IN1293/MUMNP/2011

  • 申请日2011-06-21

  • 分类号G11C11/40;G11C8/08;

  • 国家 IN

  • 入库时间 2022-08-21 17:24:05

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号