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SILICON LEVEL SOLUTION FOR MITIGATION OF SUBSTRATE NOISE

机译:缓解基质噪声的硅水平解决方案

摘要

The techniques described herein reduce the substrate noise current that exists when digital and analog components reside on the same microelectronic die. Single or multiple rows of isolation vias form isolation barriers between the individual circuit blocks. The isolation vias may be hollow or (lined or filled) with a conductive or non-conductive material.
机译:本文所述的技术减少了当数字和模拟组件位于同一微电子管芯上时存在的基板噪声电流。单行或多行隔离通孔在各个电路块之间形成隔离势垒。隔离通孔可以是空心的,也可以是(带衬里或填充有)导电或不导电的材料。

著录项

  • 公开/公告号EP2044626A4

    专利类型

  • 公开/公告日2012-03-14

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 INTEL CORPORATION;

    申请/专利号EP20070799114

  • 发明设计人 KAMGAING TELESPHOR;

    申请日2007-06-27

  • 分类号H01L23/538;H01L21/764;H01L21/768;H01L21/8234;H01L21/8238;H01L23/48;H01L23/58;

  • 国家 EP

  • 入库时间 2022-08-21 17:16:47

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