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LIGHT GUIDE PLATE PATTERN WET ETCHING APPARATUS CAPABLE OF PRECISELY PROCESSING AN INTAGLIO PATTERN ON A LIGHT GUIDE PLATE THROUGH AN ETCHING PROCESS

机译:能够通过蚀刻过程精确地处理光导板上的凹版图案的光导板图案湿法蚀刻设备

摘要

PURPOSE: A light guide plate pattern wet etching apparatus is provided to perform a first etching process of a light guide plate by an etching heater part, thereby precisely arranging an etching pattern by performing a second etching process using an etching liquid.;CONSTITUTION: A light guide plate(121) is loaded and unloaded on the upper surface of a support stand(110). A light guide plate supporting frame(120) supports the light guide plate and a mask(123). A magnetic attaching part(130) closely attaches the mask in the light guide plate using magnetic force. An etching heater part(140) arranges a pattern by applying heat on the surface of the light guide plate. A heater power source(160) supplies power to a heater(143) of the etching heater part.;COPYRIGHT KIPO 2012
机译:用途:提供一种导光板图案湿法蚀刻设备,以通过蚀刻加热器部件对导光板进行第一次蚀刻,从而通过使用蚀刻液进行第二次蚀刻工艺来精确地布置蚀刻图案。导光板(121)在支架(110)的上表面上装卸。导光板支撑框架(120)支撑导光板和掩模(123)。磁性附接部分(130)利用磁力将掩模紧密地附接在导光板上。蚀刻加热器部分(140)通过在导光板的表面上施加热量来布置图案。加热器电源(160)向蚀刻加热器部分的加热器(143)供电。; COPYRIGHT KIPO 2012

著录项

  • 公开/公告号KR20110136043A

    专利类型

  • 公开/公告日2011-12-21

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 WI SOON IM;

    申请/专利号KR20100055803

  • 发明设计人 WI SOON IM;CHOI DAI KYU;

    申请日2010-06-14

  • 分类号G02B6/00;G02F1/1335;G03F7/30;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-21 17:11:21

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