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SPP Bragg Grating Components in the MIM Structure and Manufacturing Method Thereof

机译:MIM结构中的SPP布拉格光栅组件及其制造方法

摘要

The present invention relates to a device and a manufacturing method SPP Bragg grating in the MIM structure , the first metal layer , and a second metal layer formed on the dielectric layer and the dielectric layer formed on the first metal layer , but provides a Bragg grating device and a method of manufacturing the same , characterized in that the metal Bragg grating structure on the top or bottom of the second metal layer that is formed projecting by miniaturization , low power consumption screen , allowing the implementation of high-density nano- plasmonic circuits and optical integrated module of the cost .
机译:MIM结构中的SPP布拉格光栅,第一金属层和第二金属层形成在介电层上以及形成在第一金属层上的介电层的装置和制造方法技术领域器件及其制造方法,其特征是通过小型化,低功耗屏幕投影形成的第二金属层的顶部或底部的金属布拉格光栅结构,允许实现高密度的纳米等离子体电路。和光集成模块的费用。

著录项

  • 公开/公告号KR101086698B1

    专利类型

  • 公开/公告日2011-11-24

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人

    申请/专利号KR20090101648

  • 发明设计人 박해령;이명현;

    申请日2009-10-26

  • 分类号G02B6/12;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-21 17:11:07

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