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HIGH WITHSTAND VOLTAGE BASE RESISTANCE THYRISTOR MANUFACTURING METHOD

机译:高耐压基础电阻晶闸管制造方法

摘要

PURPOSE: A method for manufacturing a high withstanding voltage base resistance thyristor is provided to prevent a breakdown voltage from being dropped at a cell edge by using an FLR(Field Limiting Ring). CONSTITUTION: A BRT(Base Resistance Controlled Thyristor) controls a thyristor by using a current of an IGBT(Insulated Gate Bipolar Transistor). The BRT includes an N+ drift layer, a P+ base layer, and an N+ emitter layer. A P base layer is formed on the N+ drift layer. The N+ emitter layer is formed on the P base layer.
机译:目的:提供一种用于制造高耐压基极可控硅的方法,以通过使用FLR(场限制环)防止击穿电压在电池边缘下降。组成:BRT(基极电阻控制晶闸管)通过使用IGBT(绝缘栅双极晶体管)的电流来控制晶闸管。 BRT包括N +漂移层,P +基极层和N +发射极层。在N +漂移层上形成P基极层。 N +发射极层形成在P基极层上。

著录项

  • 公开/公告号KR20120038188A

    专利类型

  • 公开/公告日2012-04-23

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 SILICONHANDS;

    申请/专利号KR20100099816

  • 发明设计人 KANG EY GOO;

    申请日2010-10-13

  • 分类号H01L29/74;H01L29/78;H01L21/336;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-21 17:10:12

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