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FABRICATING METHOD FOR THIN FLIM TRANSISTER SUBSTRATE AND THIN FLIM TRANSISTER SUBSTRATE USING THE SAME

机译:使用相同的薄膜晶体管基板和薄膜晶体管基板的制造方法

摘要

A thin film transistor substrate and its fabrication method are discussed. According to an embodiment, the fabricating method of a thin film transistor substrate includes forming a gate electrode on a substrate; forming a gate insulating film on the gate electrode, the gate insulating film having a groove in an area corresponding to an area where an active layer of a thin film transistor is to be formed; forming the active layer of the thin film transistor by use of a nanowire in the groove of the gate insulating film; and forming a source electrode and a drain electrode on the active layer.
机译:讨论了一种薄膜晶体管基板及其制造方法。根据一个实施例,薄膜晶体管基板的制造方法包括:在基板上形成栅电极;以及在基板上形成栅电极。在栅电极上形成栅绝缘膜,该栅绝缘膜在与将要形成薄膜晶体管的有源层的区域相对应的区域中具有凹槽;通过在栅极绝缘膜的凹槽中使用纳米线形成薄膜晶体管的有源层;在有源层上形成源电极和漏电极。

著录项

  • 公开/公告号KR101137865B1

    专利类型

  • 公开/公告日2012-04-20

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人

    申请/专利号KR20050053714

  • 发明设计人 채기성;박미경;

    申请日2005-06-21

  • 分类号G02F1/136;G02F1/00;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-21 17:08:13

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