首页> 外国专利> Purification of substrate surfaces by means of co2 and n2o

Purification of substrate surfaces by means of co2 and n2o

机译:通过co2和n2o净化基材表面

摘要

A process for the purification of the substrate surfaces, in which carbon dioxide, the at least temporarily of nitrous oxide, as a cleaning agent to the substrate surface is brought into contact, characterized in that the cleaning agent 5 to 20 vol -% of nitrous oxide, the remainder being carbon dioxide, contains.
机译:一种净化衬底表面的方法,其中使作为清洁剂的至少暂时的一氧化二氮二氧化碳作为清洁剂与衬底表面接触,其特征在于,清洁剂的亚硝酸盐含量为5至20体积%氧化物,其余为二氧化碳。

著录项

  • 公开/公告号DE10236485B4

    专利类型

  • 公开/公告日2012-10-11

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 AIR LIQUIDE DEUTSCHLAND GMBH;

    申请/专利号DE2002136485

  • 发明设计人 DONNERHACK ANDREAS DR.;VOLKER WOLFGANG;

    申请日2002-08-09

  • 分类号C11D7/08;B08B7/00;D06F37/20;D06F43/00;H01L21/00;H01L21/306;

  • 国家 DE

  • 入库时间 2022-08-21 17:05:47

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号