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Mask inspection system and method using Fourier filtering and image comparison, lithography system and scan detection system

机译:使用傅里叶滤波和图像比较的掩模检查系统和方法,光刻系统和扫描检测系统

摘要

机译:

著录项

  • 公开/公告号JP2012523552A5

    专利类型

  • 公开/公告日2013-05-02

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人

    申请/专利号JP2012503945

  • 发明设计人

    申请日0000-00-00

  • 分类号G01N21/956;G03F1/84;H01L21/027;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-21 17:01:27

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