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FABRICATION METHOD OF WAFER LEVEL SEMICONDUCTOR PACKAGE AND FABRICATION METHOD OF WAFER LEVEL PACKAGING SUBSTRATE

机译:晶圆级半导体包装的制备方法及晶圆级包装基质的制备方法

摘要

A fabrication method of a wafer level semiconductor package includes: forming on a carrier a first dielectric layer having first openings exposing portions of the carrier; forming a circuit layer on the first dielectric layer, a portion of the circuit layer being formed in the first openings; forming on the first dielectric layer and the circuit layer a second dielectric layer having second openings exposing portions of the circuit layer; forming conductive bumps in the second openings; mounting a semiconductor component on the conductive bumps; forming an encapsulant for encapsulating the semiconductor component; and removing the carrier to expose the circuit layer. By detecting the yield rate of the circuit layer before mounting the semiconductor component, the invention avoids discarding good semiconductor components together with packages as occurs in the prior art, thereby saving the fabrication cost and improving the product yield.
机译:晶片级半导体封装的制造方法包括:在载体上形成具有第一开口的第一介电层,该第一开口暴露出载体的一部分;在第一介电层上形成电路层,该电路层的一部分形成在第一开口中;在第一介电层和电路层上形成具有第二开口的第二介电层,第二开口暴露出电路层的一部分;在第二开口中形成导电凸块;在导电凸块上安装半导体组件;形成用于密封半导体部件的密封剂;去除载体以暴露电路层。通过在安装半导体部件之前检测电路层的成品率,本发明避免了如现有技术中那样将好的半导体部件与封装一起丢弃,从而节省了制造成本并提高了产品良率。

著录项

  • 公开/公告号US2013252383A1

    专利类型

  • 公开/公告日2013-09-26

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 SILICONWARE PRECISION INDUSTRIES CO. LTD.;

    申请/专利号US201213628582

  • 发明设计人 LU-YI CHEN;

    申请日2012-09-27

  • 分类号H01L21/56;H01L21/60;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 16:51:07

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