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SHAPING OFFSET ADJUSTING METHOD USING A THIRD POLYNOMIAL AND A CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS

机译:使用第三项多项式和带电粒子束写入设备的形状偏移调整方法

摘要

PURPOSE: A shaping offset adjusting method and a charged particle writing apparatus are provided to reduce shaping offset adjusting errors by performing fitting using a third polynomial.;CONSTITUTION: A control unit (3) includes a deflection controller (32), a detector (36), and a control calculator (31). The deflection controller controls the deflection of a charged particle beam. The detector measures a current value of the charged particle beam and includes a Faraday cup. A control calculator controls the deflection controller and a stage.;COPYRIGHT KIPO 2013;[Reference numerals] (31a) Data processor; (31b) Setting unit; (31c) Calculation unit; (31d) Determination unit; (32) Deflection controller; (32a) Correction unit; (33) Blanking amplifier; (34,35) DAC amplifier; (36) Detector; (37) Memory; (39) External I/F
机译:目的:提供一种成形偏移调整方法和带电粒子写入设备,以通过使用第三多项式进行拟合来减少成形偏移调整误差。组成:控制单元(3)包括偏转控制器(32),检测器(36) ),以及控制计算器(31)。偏转控制器控制带电粒子束的偏转。该检测器测量带电粒子束的电流值并且包括法拉第杯。 COPYRIGHT KIPO 2013; [附图标记](31a)数据处理器;控制计算器控制偏转控制器和平台。 (31b)设定单元; (31c)计算单位; (31d)确定单位; (32)偏转控制器; (32a)校正单位; (33)消隐放大器; (34,35)DAC放大器; (36)探测器; (37)记忆; (39)外部接口

著录项

  • 公开/公告号KR20130111419A

    专利类型

  • 公开/公告日2013-10-10

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 NUFLARE TECHNOLOGY INC.;

    申请/专利号KR20130034153

  • 发明设计人 NAKAYAMA TAKAHITO;

    申请日2013-03-29

  • 分类号H01L21/027;G03F7/20;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-21 16:26:10

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