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IN-LINE EXPOSURE SYSTEM USING VIRTUAL IRRADIATING PATTERN AND METHOD FOR IN-LINE PRINTING USING THE SAME

机译:使用虚拟辐射图案的在线曝光系统和使用该系统的在线印刷方法

摘要

PURPOSE: An in-line exposure system using a virtual irradiation pattern and an exposure method using the same are provided to easily adjust the shape of exposure patterns in a two-dimensional form or a three-dimensional form by controlling line light source irradiated to a transferring target. CONSTITUTION: An in-line exposure system using a virtual irradiation pattern(100) includes a transferring part(110), a photo-sensitizer laminating part(120), an exposure part(130), and a printing part(140). The transferring part transfers a substrate to a pre-set direction. The photo-sensitizer laminating part laminates a photo-sensitizer to the substrate in order to prepare a target to be exposed. The exposure part exposes the target to be exposed by irradiating light. The printing part prints the exposed target. The exposure part includes a light irradiating part and a light controlling part.
机译:目的:提供使用虚拟照射图案的在线曝光系统和使用其的曝光方法,以通过控制照射到光源的线光源来容易地以二维形式或三维形式调节曝光图案的形状。转移目标。构成:使用虚拟照射图案(100)的在线曝光系统,包括转印部分(110),光敏剂层压部分(120),曝光部分(130)和印刷部分(140)。传送部将基板传送到预设方向。光敏剂层压部分将光敏剂层压到基板上,以制备要曝光的靶。曝光部分通过照射光来曝光要曝光的目标。印刷部分印刷曝光的目标。曝光部包括光照射部和光控制部。

著录项

  • 公开/公告号KR101234747B1

    专利类型

  • 公开/公告日2013-02-19

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人

    申请/专利号KR20100074769

  • 发明设计人 최홍수;최두선;황경현;

    申请日2010-08-02

  • 分类号G03F7/20;B41M7;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-21 16:25:42

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