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HYDROPHOBICIZATION OF SILICAS UNDER OXIDIZING CONDITIONS

机译:氧化条件下西里卡斯的疏水化

摘要

Modified silicas having low silanol content which are compatible with polar compositions are prepared by modifying silica with a difunctional reactive organosilane or polydialkylsiloxane under oxidizing conditions below 400° C. The silicas have a distinct proportion of T1, T2, and T3 groups.
机译:通过在400℃以下的氧化条件下用双官能反应性有机硅烷或聚二烷基硅氧烷改性二氧化硅,来制备与极性组合物相容的低硅烷醇含量的改性二氧化硅。该二氧化硅具有不同比例的T1,T2和T3基团。

著录项

  • 公开/公告号KR101259244B1

    专利类型

  • 公开/公告日2013-04-29

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人

    申请/专利号KR20107014849

  • 申请日2008-12-12

  • 分类号C09C1/30;C09D7/12;C09J11/04;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-21 16:25:17

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