机译:用于处理基板的真空处理系统具有压力分离装置,该压力分离装置具有分离元件,该压力分离装置通过在基板上延伸间隙的形成而在与基板的输送方向成横向的方向上延伸。
公开/公告号DE102012202715A1
专利类型
公开/公告日2013-08-08
原文格式PDF
申请/专利权人 VON ARDENNE ANLAGENTECHNIK GMBH;
申请/专利号DE201210202715
申请日2012-02-22
分类号C23C14/56;C23C16/54;C03C17/245;B01J3/02;
国家 DE
入库时间 2022-08-21 16:21:44