首页> 外国专利> RF bias capacitive electrostatic coupling to characterize the membrane in a plasma processing chamber (RFB-CCE) probe arrangement, a method associated therewith, and a program storage medium for storing code for performing the method

RF bias capacitive electrostatic coupling to characterize the membrane in a plasma processing chamber (RFB-CCE) probe arrangement, a method associated therewith, and a program storage medium for storing code for performing the method

机译:用于表征等离子体处理室(RFB-CCE)探针装置中的膜的特征的RF偏置电容式静电耦合,与其相关的方法以及用于存储用于执行该方法的代码的程序存储介质

摘要

机译:

著录项

  • 公开/公告号JP2011527523A5

    专利类型

  • 公开/公告日2014-02-13

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人

    申请/专利号JP2011517514

  • 发明设计人

    申请日0000-00-00

  • 分类号H01L21/205;H01L21/3065;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-21 16:18:24

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