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The colloidal silica and the crude colloidal

机译:胶体二氧化硅和粗胶体

摘要

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide colloidal silica which has high-purity and is inexpensive, and to provide a method for producing such colloidal silica.;SOLUTION: The method for producing colloidal silica comprises: a surface treatment process of performing the wet treatment of crude colloidal silica containing alkali metal with a surface treatment agent; and a refining process of preparing refined colloidal silica by performing the washing with mineral acid-containing liquid and water in this order. In particular, the surface treatment agent desirably contains at least one compound selected from a group consisting of silane coupling agents and silazanes.;COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT
机译:解决的问题:提供一种高纯度且廉价的胶态二氧化硅,并提供一种制备这种胶态二氧化硅的方法。解决方案:该胶态二氧化硅的制备方法包括:表面处理工艺,该表面处理工艺进行湿法处理。含有碱金属和表面处理剂的粗胶体二氧化硅。以及通过依次用含无机酸的液体和水进行洗涤来制备精制的胶体二氧化硅的精制方法。特别地,表面处理剂期望包含选自由硅烷偶联剂和硅氮烷组成的组中的至少一种化合物。版权所有:(C)2011,JPO&INPIT

著录项

  • 公开/公告号JP5484100B2

    专利类型

  • 公开/公告日2014-05-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 株式会社アドマテックス;

    申请/专利号JP20100016711

  • 发明设计人 大野 裕司;楊原 武;

    申请日2010-01-28

  • 分类号C01B33/148;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-21 16:11:38

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