首页> 外国专利> Tracerpartikkel for overvåking av prosesser i minst en fluidfase, samt fremgangsmåter og anvendelser av denne

Tracerpartikkel for overvåking av prosesser i minst en fluidfase, samt fremgangsmåter og anvendelser av denne

机译:用于监测至少一种流体相中的过程的示踪剂颗粒及其方法和应用

摘要

Oppfinnelsen angår en tracerpartikkel for overvåking av prosesser i et system, hvor systemet omfatter et fluid med minst en fluidfase. Tracerpartikkelen omfatter en integrert krets (IC) som tilveiebringer en unik identifikasjon av tracerpartikkelen, hvor den integrerte kretsen er omsluttet/innbakt i et belegg/skall som gir spesifikke egenskaper til tracerpartikkelen i forbindelse med minst en av i) fluidet; ii) omgivelsestilstander i systemet; og iii) detekterbarhet av tracerpartikkelen. Fremgangsmåter for overvåking av prosesser i et system ved å bruke tracerpartikkelen er også beskrevet sammen med anvendelser av tracerpartiklene. K-*aeerpartikler (B) (C) (A) j C3- Tikiwsel belegg/skall ¿ IC IC-tr «Ikter med overtlatefiwditlcaajoner Chfertlatemodifikasjoner Tilpasset bdegøtekall IC C-traoeipvtikket med innbricte modifikasjoner rnnbakte modifikasjoner
机译:本发明涉及用于监测系统中的过程的示踪剂颗粒,其中该系统包括具有至少一个流体相的流体。示踪剂颗粒包括提供对示踪剂颗粒的唯一标识的集成电路(IC),其中集成电路被包封/嵌入在涂层/壳中,该涂层/壳与至少一种i)流体相关联地赋予示踪剂颗粒特定的性能; ii)系统中的环境条件; iii)示踪剂颗粒的可检测性。还描述了使用示踪剂颗粒监测系统中过程的方法以及示踪剂颗粒的应用。 K- * aeerpartikler(B)(C)(A)j C3- Tikiwsel涂层/外壳¿IC IC-tr«修饰的过碘酸盐修饰的bdegøtekallIC修饰的Indbricte修饰rnnbakte修饰

著录项

  • 公开/公告号NO20121197A1

    专利类型

  • 公开/公告日2014-04-17

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 SINVENT AS;

    申请/专利号NO20120001197

  • 发明设计人 KILAAS LARS;LUND ARE;SKJETNE PAAL;

    申请日2012-10-16

  • 分类号G01F1;G01F1/74;G01N11/10;

  • 国家 NO

  • 入库时间 2022-08-21 15:56:51

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号