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TECHNIQUES FOR PATTERNING MULTILAYER MAGNETIC MEMORY DEVICES USING ION IMPLANTATION

机译:离子注入法刻画多层磁性存储器的技术

摘要

A method of patterning a substrate includes providing a layer stack comprising a plurality of layers on a base portion of the substrate, where the layer stack includes an electrically conductive layer and a magnetic layer. The method further includes forming a first mask feature on an outer surface of the layer stack above a first protected region and a second mask feature on the outer surface of the layer stack above a second protected region, and directing ions towards the layer stack to magnetically isolate and electrically isolate the first protected region from the second protected region.
机译:一种对衬底进行构图的方法,包括在衬底的基底部分上提供包括多个层的叠层,其中该叠层包括导电层和磁性层。该方法还包括在第一受保护区域上方的层堆叠的外表面上形成第一掩模特征,以及在第二受保护区域上方的层堆叠的外表面上形成第二掩模特征,以及将离子引向层堆叠以磁性方式引导。将第一保护区与第二保护区隔离并电隔离。

著录项

  • 公开/公告号WO2013162918A3

    专利类型

  • 公开/公告日2014-01-23

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 VARIAN SEMICONDUCTOR EQUIPMENT ASSOCIATES INC.;

    申请/专利号WO2013US36317

  • 发明设计人 HAUTALA JOHN J.;

    申请日2013-04-12

  • 分类号H01L43/12;H01L27;

  • 国家 WO

  • 入库时间 2022-08-21 15:53:33

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