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Layer system for creating a surface layer on a surface of a substrate, vaporisation source for manufacturing a layer system

机译:用于在基底表面上形成表面层的层系统,用于制造层系统的汽化源

摘要

A layered structure has a primary hard layer comprising silicon-containing composition. A layered structure has a primary hard layer comprising silicon-containing composition ((M oSi pAY' q)(gamma )(N rC sO t)(delta ), where M is aluminum and element chosen from II group, IVB group, VB group and VIB group of periodic table, AY' is manganese, iron, cobalt, nickel, boron, copper, IIIB group element, and element chosen from IA group, IIA group and IIIA group of periodic table, and element of lanthanoid series, (gamma ) is 40-60 and (gamma +delta ) is 100). Independent claims are included for the following: (1) arc deposition source; and (2) merging deposition source.
机译:层状结构具有包含含硅组合物的主硬层。层状结构具有包含包含硅的成分((M oSi pAY'q)(γ)(N rC sO t)(δ)的主硬层,其中M为铝,元素选自II组,IVB组,VB组和周期表的VIB族,AY'是锰,铁,钴,镍,硼,铜,IIIB族元素,以及选自IA组,IIA族和IIIA族的元素周期表中的元素以及镧系元素,(γ )是40-60,而(gamma + delta)是100)。包括以下方面的独立权利要求:(1)电弧沉积源; (2)合并沉积源。

著录项

  • 公开/公告号EP2022870B1

    专利类型

  • 公开/公告日2014-07-23

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 SULZER METAPLAS GMBH;

    申请/专利号EP20080157307

  • 发明设计人 ERKENS GEORG;VETTER JÖRG;

    申请日2008-05-30

  • 分类号C23C14/06;

  • 国家 EP

  • 入库时间 2022-08-21 15:51:22

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