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METHOD FOR MANUFACTURING A SINGLE CRYSTAL OF NITRIDE BY EPITAXIAL GROWTH ON A SUBSTRATE PREVENTING GROWTH ON THE EDGES OF THE SUBSTRATE

机译:通过在基质边缘上的表皮生长来制造氮化物的单个晶体的方法,以防止基质边缘上的生长

摘要

A method for manufacturing a single crystal of nitride by epitaxial growth on a substrate appropriate for the growth of the crystal. The substrate includes, deposited on the edges of its growth surface, a mask appropriate to prevent growing of the single crystal on the edges of the substrate.
机译:一种通过在适于晶体生长的基板上外延生长来制造氮化物单晶的方法。衬底包括沉积在其生长表面的边缘上的掩模,该掩模适合于防止单晶在衬底的边缘上生长。

著录项

  • 公开/公告号KR101426319B1

    专利类型

  • 公开/公告日2014-08-06

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人

    申请/专利号KR20097013968

  • 申请日2006-12-08

  • 分类号C30B23/04;C30B29/38;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-21 15:40:24

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