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WALL REFORM STRUCTURE AND WALL REFORM METHOD

机译:墙体改革结构和墙体改革方法

摘要

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a wall reform structure and a wall reform method capable of easily selecting various functions for improvement at the time of reform.;SOLUTION: Wall reform structures 100, 100a,..., 100q includes: a frame 300 on which a wall fitting part 330 and a projection part 320 are disposed; one or a plurality of inner layer panels 400, 400a, 400f,..., 400q laminated on the frame 300; and one or a plurality of surface panels 500, 500a,..., 500q, 521, 522, 523, 525, 526, 528, 529 laminated on the inner layer panels 400, 400a, 400f,..., 400q. An opening 420 or a hole 530 which can be attached to or detached from the frame 300 is disposed on at least one of the inner layer panels 400, 400a, 400f,..., 400q and the surface panels 500, 500a,..., 500q, 521, 522, 523, 525, 526, 528, 529.;COPYRIGHT: (C)2016,JPO&INPIT
机译:解决的问题:提供一种能够容易地选择各种功能以进行改造的墙壁改质结构和墙壁改质方法;解决方案:墙壁改质结构100,100a,...,100q包括:框架300在其上设置壁装配部330和突出部320;层压在框架300上的一个或多个内层面板400、400a,400f,...,400q;一个或多个层压在内层板400、400a,400f,...,400q上的面板500、500a,...,500q,521、522、523、525、526、528、529。可以附接到框架300或从框架300拆卸的开口420或孔530设置在内层板400、400a,400f,...,400q和表面板500、500a ..中的至少一个上。 。,500q,521,522,523,525,526,528,529.; COPYRIGHT:(C)2016,JPO&INPIT

著录项

  • 公开/公告号JP2015175105A

    专利类型

  • 公开/公告日2015-10-05

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 SEKISUI CHEM CO LTD;

    申请/专利号JP20140049936

  • 发明设计人 NAKAO RYOSUKE;OKABE SHUNICHI;

    申请日2014-03-13

  • 分类号E04F13/21;E04F13/08;E04G23/02;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-21 15:33:40

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