机译:保护剂,用保护剂制造被保护化合物的方法,用保护剂保护树脂,通过保护剂含有被保护树脂的光敏树脂组合物,图案形成材料,光敏膜,固化浮雕图案,制造方法以及半导体装置
公开/公告号JP5696254B2
专利类型
公开/公告日2015-04-08
原文格式PDF
申请/专利权人 富士フイルム株式会社;
申请/专利号JP20140506302
申请日2013-03-22
分类号C08F8;C08G8/28;C08G73/10;C08G69/48;C08F12/24;C08F20/06;C07C69/54;C07C67/11;C07C43/30;C07C41/52;G03F7/039;C07C43/174;C07C43/12;C07C43/225;C07C69/14;C07C69/708;C07C255/16;C07C43/192;
国家 JP
入库时间 2022-08-21 15:28:49