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Reduction type electroless silver plating solution.

机译:还原型化学镀银溶液。

摘要

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a reducing type electroless silver plating solution without containing a cyanogen compound, excellent in liquid stability.;SOLUTION: The reducing type electroless silver plating solution includes: a water-soluble silver compound; a reducing agent; and a compound represented by the following general formula (1) as a liquid stabilizer. The compound represented by the general formula (1) is preferably a compound of CAS number 68603-67-8. In the formula, R represents an alkyl group or an aryl group, and m and n represent an integer of 1 to 3, respectively.;COPYRIGHT: (C)2012,JPO&INPIT
机译:解决的问题:提供一种不包含氰化物的还原型化学镀银溶液,其液体稳定性优异。解决方案:还原型化学镀银溶液包括:水溶性银化合物;还原剂;并且,由以下通式(1)表示的化合物作为液体稳定剂。通式(1)表示的化合物优选为CAS号为68603-67-8的化合物。式中,R表示烷基或芳基,m和n分别表示1〜3的整数。COPYRIGHT:(C)2012,JPO&INPIT

著录项

  • 公开/公告号JP5732224B2

    专利类型

  • 公开/公告日2015-06-10

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上村工業株式会社;

    申请/专利号JP20100226919

  • 发明设计人 橋本 大督;岡田 享;

    申请日2010-10-06

  • 分类号C23C18/44;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-21 15:28:48

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