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METHOD AND APPARATUS FOR SUPPRESSING METAL-GATE CROSS-DIFFUSION IN SEMICONDUCTOR TECHNOLOGY

机译:抑制半导体技术中金属门的交叉扩散的方法和装置

摘要

An inverter includes: a PMOS comprising: a p-type source region, a p-type drain region, a p-channel region between the p-type source region and the p-type drain region, and a PMOS metal gate region; a NMOS, comprising: an n-type source region, an n-type drain region, an n-channel region between the n-type source region and the n-type drain region, and a NMOS metal gate region; an insulating layer above the p-channel region and the n-channel region, wherein the PMOS metal gate region and the NMOS metal gate region are above the insulating layer; and a gate contact between the NMOS metal gate region and the PMOS metal gate region.
机译:逆变器包括:PMOS,包括:p型源极区域,p型漏极区域,在p型源极区域和p型漏极区域之间的p沟道区域,以及PMOS金属栅区域;以及NMOS,包括:n型源极区域,n型漏极区域,在n型源极区域和n型漏极区域之间的n沟道区域以及NMOS金属栅极区域;在p沟道区和n沟道区上方的绝缘层,其中,PMOS金属栅区和NMOS金属栅区在绝缘层上方; NMOS金属栅极区域和PMOS金属栅极区域之间的栅极接触。

著录项

  • 公开/公告号US2015054085A1

    专利类型

  • 公开/公告日2015-02-26

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 XILINX INC.;

    申请/专利号US201313973616

  • 申请日2013-08-22

  • 分类号H01L27/092;H01L21/8238;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 15:23:07

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