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机译:二氧化硅抗反射涂料的制造方法,所得产品以及包括该抗反射涂料的光电器件
公开/公告号BRPI0818775A2
专利类型
公开/公告日2015-04-14
原文格式PDF
申请/专利权人 GUARDIAN INDUSTRIES CORP.;
申请/专利号BR2008PI18775
发明设计人 DESARAJU V. VARAPRASAD;SCOTT V. THOMSEN;NATHAN P. MELLOTT;PRAMOD K. SHARMA;YIWEI LU;
申请日2008-08-26
分类号C03C17/00;G02B1/11;H01L31/0216;
国家 BR
入库时间 2022-08-21 15:16:07
机译: 涂层抗反射型二氧化硅的制造方法,所得产品和包括该抗反射型二氧化硅的光伏器件
机译: 制造抗反射二氧化硅涂层的方法,所得产品和包含该涂层的光电器件。
机译: 半导体器件的制造方法和用于制造用于形成涂膜的二氧化硅基涂布液的二氧化硅基涂布工艺,用于形成涂膜的二氧化硅基涂布液,二氧化硅基涂膜