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机译：光学元件的安装方法，光学元件的悬挂装置，光学仪器和光刻技术。
公开/公告号NL2013692A
专利类型
公开/公告日2015-01-13
原文格式PDF
申请/专利权人 ASML NETHERLANDS B.V.;
申请/专利号NL20142013692
发明设计人 BUIS EDWIN JOHAN;REKKERS ERIK MARIA;VRIES GOSSE CHARLES;
申请日2014-10-28
分类号G02B7/00;G03F7/20;
国家 NL
入库时间 2022-08-21 15:13:42
机译： 反射型光学元件的制造方法，反射型光学元件，Euv光刻设备以及光学元件和Euv光刻设备的操作方法，相移的确定方法，层厚度的确定方法以及实施该方法的设备
机译： 制造反射性光学元件的方法，反射性光学元件，EUV光刻技术以及操作光学元件和EUV光刻技术的方法，确定相移的方法，确定方法和层的方法
机译： 去除沉积在光学元件中的物质的方法，保护光学元件的方法，设备制造方法，包含光学元件的设备和光刻设备
