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III NITRIDE STRUCTURE AND METHOD FOR MANUFACTURING III NITRIDE SEMICONDUCTOR FINE COLUMNAR CRYSTAL

机译:III氮化物的结构和制造方法III氮化物细柱状晶体

摘要

A III nitride structure includes a film 108 having a surface composed of a metal formed in a predetermined region on the surface of a substrate 102, and a fine columnar crystal 110 composed of at least a III nitride semiconductor formed on the surface of the substrate 102, wherein the spatial occupancy ratio of the fine columnar crystal 110 is higher on the surface of the substrate 102 where the film 108 is not formed than that on the film.
机译:III族氮化物结构包括:具有在基底102的表面上的预定区域中形成的由金属构成的表面的膜108;和在基底102的表面上形成的至少由III族氮化物半导体构成的微细柱状晶体110。 ,其中,细柱状晶体110的空间占有率在没有形成膜108的基板102的表面上比在膜上的空间占有率高。

著录项

  • 公开/公告号EP2202329B1

    专利类型

  • 公开/公告日2016-05-04

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 SOPHIA SCHOOL CORP;

    申请/专利号EP20080829248

  • 发明设计人 KISHINO KATSUMI;KIKUCHI AKIHIKO;

    申请日2008-08-27

  • 分类号C30B23/00;C30B29/60;C30B29/40;H01L21/02;

  • 国家 EP

  • 入库时间 2022-08-21 14:52:48

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