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USE OF SILICON NITRIDE AS A SUBSTRATE AND A COATING MATERIAL FOR THE RAPID SOLIDIFICATION OF SILICON

机译:氮化硅作为基质和涂层材料快速固化硅的用途

摘要

Silicon nitride particles are used as a coating or substrate material for kerfless wafer making technologies.
机译:氮化硅颗粒用作无切口晶圆制造技术的涂层或基材。

著录项

  • 公开/公告号US2016141442A1

    专利类型

  • 公开/公告日2016-05-19

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 CHRISTOPH SACHS;

    申请/专利号US201414900884

  • 发明设计人 CHRISTOPH SACHS;

    申请日2014-07-10

  • 分类号H01L31/18;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 14:37:38

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