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Open Air Plasma Deposition Method

机译:露天等离子体沉积方法

摘要

An apparatus may comprise a plasma deposition unit, a movement system, and a mesh system. The plasma deposition unit may be configured to generate a plasma. The movement system may be configured to move a substrate under the plasma deposition unit. The mesh system may be located between the plasma deposition unit and the substrate in which a mesh may comprise a number of materials for deposition onto the substrate and in which the plasma passing through the mesh may cause a portion of the number of materials from the mesh to be deposited onto the substrate.
机译:装置可包括等离子体沉积单元,移动系统和网状系统。等离子体沉积单元可以被配置为产生等离子体。移动系统可以被配置为在等离子体沉积单元下方移动基板。网格系统可以位于等离子体沉积单元和衬底之间,其中网格可以包括用于沉积到衬底上的多种材料,并且其中穿过网格的等离子体可以导致一部分材料来自网格。沉积到基板上。

著录项

  • 公开/公告号US2016053369A1

    专利类型

  • 公开/公告日2016-02-25

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 THE BOEING COMPANY;

    申请/专利号US201514867196

  • 发明设计人 MARVI A. MATOS;LIAM S. CAVANAUGH PINGREE;

    申请日2015-09-28

  • 分类号C23C14/56;H01J37/32;C23C14/22;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 14:35:39

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