首页> 外国专利> Nanodot charge storage structures

Nanodot charge storage structures

机译:纳米点电荷存储结构

摘要

Methods, devices, and systems associated with charge storage structures in semiconductor devices are described herein. In one or more embodiments, a method of forming nanodots includes forming at least a portion of a charge storage structure over a material by reacting a single-source precursor and a reactant, where the single-source precursor includes a metal and a semiconductor.
机译:本文描述了与半导体器件中的电荷存储结构相关的方法,器件和系统。在一个或多个实施例中,一种形成纳米点的方法包括通过使单源前驱物和反应物反应而在材料上方形成电荷存储结构的至少一部分,其中单源前驱物包括金属和半导体。

著录项

  • 公开/公告号US9397105B2

    专利类型

  • 公开/公告日2016-07-19

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 MICRON TECHNOLOGY INC.;

    申请/专利号US201314021705

  • 发明设计人 JAYDEB GOSWAMI;

    申请日2013-09-09

  • 分类号H01L29/788;H01L27/11;B82Y10;H01L21/28;H01L29/423;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 14:31:27

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号