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Applying edge-on photoluminescence to measure bulk impurities of semiconductor materials

机译:应用边缘发光法测量半导体材料中的大块杂质

摘要

Provided are photoluminescence spectroscopy systems and methods for identifying and quantifying impurities in a semiconductor sample. In some embodiments, the systems and methods comprise a defocused collimated laser beam illuminating a first sample surface, and collection by a collection lens of photoluminescence from a sample edge at the intersection of the first surface with a substantially orthogonal second surface, wherein the first sample surface is oriented from about 0° to 90° with respect to a position parallel to the collection lens.
机译:提供了用于鉴定和定量半导体样品中的杂质的光致发光光谱系统和方法。在一些实施例中,所述系统和方法包括:散焦的准直激光束,其照射第一样品表面;以及由收集透镜从在所述第一表面与基本上正交的第二表面的相交处的样品边缘进行光致发光的收集,其中,所述第一样品该表面相对于平行于收集透镜的位置定向为大约0°至90°。

著录项

  • 公开/公告号US9261464B2

    专利类型

  • 公开/公告日2016-02-16

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 DOUG KRESZOWSKI;JOHN W. HADD;

    申请/专利号US201113701913

  • 发明设计人 DOUG KRESZOWSKI;JOHN W. HADD;

    申请日2011-06-03

  • 分类号G01N21/89;G01N21/95;G01N21/64;G01N21/94;G01J3/443;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 14:31:12

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