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Adjusting method of pattern transferring plate, laser application machine and pattern transferring plate

机译：图案转印板的调整方法，激光施加机及图案转印板

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摘要

According to one embodiment, a parameter for laser irradiation is adjusted in correspondence with thickness distribution of a substrate of a pattern transferring plate in which a pattern is formed on the substrate to form an altered portion within the substrate.

机译：根据一个实施例，与图案转印板的基板的厚度分布相对应地调整用于激光照射的参数，其中图案形成在基板上以在基板内形成改变部分。

著录项

公开/公告号US9429849B2

专利类型
公开/公告日2016-08-30

原文格式PDF
申请/专利权人 KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA;
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申请/专利号US201414296866
发明设计人 HIDENORI SATO;NOBUHIRO KOMINE;
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申请日2014-06-05
分类号G03B27/68;G03F7/20;G03F7/00;
国家 US
入库时间 2022-08-21 14:29:59

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