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SUBSTRATE HEAT TREATMENT APPARATUS, SUBSTRATE HEAT TREATMENT METHOD, STORAGE MEDIUM AND HEAT-TREATMENT-CONDITION DETECTING APPARATUS

机译:基体热处理设备,基体热处理方法,存储介质和热处理状态检测设备

摘要

机译:

著录项

  • 公开/公告号SG10201507918SA

    专利类型

  • 公开/公告日2016-04-28

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 TOKYO ELECTRON LIMITED;

    申请/专利号SG10201507918S

  • 发明设计人 SHINICHIRO MISAKA;KOUDAI HIGASHI;

    申请日2015-09-23

  • 分类号

  • 国家 SG

  • 入库时间 2022-08-21 14:22:50

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