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PROCESS FOR REDUCING THE LEVEL OF CHLORIDE IN CHLOROSILANE DIRECT PROCESS HYDROLYZED SUBSTRATE

机译:降低氯硅烷直接水解物中氯离子含量的方法

摘要

The present invention relates to a process for providing a low-chloride hydrolyzate comprising contacting an acid or base hydrolyzed substrate of a chlorosilane direct process residue with nitric acid to provide a hydrolyzate with a chloride content of less than about 1.8% by weight. The process of present invention is especially useful in cement kilns and smelter operation.
机译:本发明涉及一种提供低氯化物水解物的方法,该方法包括使氯硅烷直接法残余物的酸或碱水解的底物与硝酸接触,以提供氯化物含量小于约1.8重量%的水解物。本发明的方法在水泥窑和冶炼厂的操作中特别有用。

著录项

  • 公开/公告号WO2016025290A1

    专利类型

  • 公开/公告日2016-02-18

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 MOMENTIVE PERFORMANCE MATERIALS INC.;

    申请/专利号WO2015US43997

  • 发明设计人 NYE SUSAN;SCHLITZER DAVID;

    申请日2015-08-06

  • 分类号C04B5;C07F7/08;C07F7/12;C07F7/20;C10B53;C10B57;C22B7;

  • 国家 WO

  • 入库时间 2022-08-21 14:18:54

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