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METHOD FOR COATING A SUBSTRATE WITH A LACQUER AND DEVICE FOR PLANARISING A LACQUER LAYER

机译：用漆涂覆基质的方法和用于漆层平面化的装置

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摘要

The present invention relates to a method for uniformly coating a substrate (26) with lacquer without lacquers particles. The method for coating a substrate includes the steps of: coating the substrate (26) with lacquer; reducing a solvent rate of the lacquer coated on the substrate (26); and exposing the coated substrate (26) to a solvent atmosphere. The present invention also relates to a device for planarizing a lacquer layer.

机译：本发明涉及一种用不带漆颗粒的漆均匀地涂覆衬底（26）的方法。涂覆基底的方法包括以下步骤：用漆涂覆基底（26）;以及将基底（26）涂覆在基底上。降低涂覆在基底（26）上的漆的溶剂速率;将涂覆的基材（26）暴露在溶剂气氛中。本发明还涉及用于平坦化漆层的装置。

著录项

公开/公告号KR20160036500A

专利类型
公开/公告日2016-04-04

原文格式PDF
申请/专利权人 SUSS MICROTEC LITHOGRAPHY GMBH;
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申请/专利号KR20150133789
发明设计人 KANEKO KENTO;PALITSCHKA FLORIAN;PLATEN JOHANNES;FISCHER KATRIN;
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申请日2015-09-22
分类号H01L21/56;B05C9/02;H01L21/324;H01L21/67;
国家 KR
入库时间 2022-08-21 14:14:47

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