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Inspection apparatus and method for sphero-chromatic aberration correction

机译:色差校正检查装置及方法

摘要

A semiconductor inspection system and method are described. In an embodiment, the system includes an illumination system configured to transmit light at a given wavelength and an optical system configured to receive light from the illumination system and transmit light at the given wavelength to a surface. The optical system includes at least one lens (422) that is moveable (for example, a zoomable lens) to change the nominal wavelength of the semiconductor inspection system to correspond to the illumination wavelength of the illumination system so that the sphero-chromatic aberration of the semiconductor inspection system meets a user-defined tolerance.
机译:描述了一种半导体检查系统和方法。在一个实施例中,该系统包括被配置为透射给定波长的光的照明系统和被配置为从照明系统接收光并将给定波长的光透射到表面的光学系统。光学系统包括至少一个可移动的透镜(422)(例如,可变焦透镜),以改变半导体检查系统的标称波长以对应于照明系统的照明波长,从而使光斑的球面色差。半导体检查系统符合用户定义的公差。

著录项

  • 公开/公告号EP2169466B1

    专利类型

  • 公开/公告日2017-06-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 ASML HOLDING N.V.;

    申请/专利号EP20090168787

  • 发明设计人 RYZHIKOV LEV;

    申请日2009-08-27

  • 分类号G03F7/20;G01N21;G02B21;

  • 国家 EP

  • 入库时间 2022-08-21 14:06:31

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