机译:光敏转印材料,具有光敏低折射率转印层的基板,用于生产光敏低折射率转印层的方法,用于形成永久膜的方法以及用于制造光学器件的方法
公开/公告号JPWO2014077228A1
专利类型
公开/公告日2017-01-05
原文格式PDF
申请/专利权人 富士フイルム株式会社;
申请/专利号JP20140546978
申请日2013-11-12
分类号G03F7/004;B32B7/02;B32B27/18;B32B27/30;G03F7/027;G03F7/038;G02B5/20;G02B1/111;F21S2/00;
国家 JP
入库时间 2022-08-21 13:53:04