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Materials nanousinados using femtosecond pulse laser technologies to increase the surface areas and dissipation of heat output

机译:使用飞秒脉冲激光技术的纳米材料材料,可增加表面积并散发热量

摘要

Microprocessor, miniprocessor and heat sink surfaces having increased surface areas and increased heat dissipation are femtosecond pulsed laser machined. Nano structures formed and created on surfaces by the femtosecond pulsed laser machining provide increased surface areas which radiate heat by intensified IR radiation.
机译:飞秒脉冲激光加工了具有增加的表面积和增加的散热的微处理器,微型处理器和散热器表面。通过飞秒脉冲激光加工在表面上形成和形成的纳米结构提供了增加的表面积,这些表面积通过增强的IR辐射辐射热量。

著录项

  • 公开/公告号BR112015002627A2

    专利类型

  • 公开/公告日2017-07-04

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 VICTOR A. RIVAS;

    申请/专利号BR20151102627

  • 发明设计人 VICTOR A. RIVAS;

    申请日2012-08-06

  • 分类号G06F1/20;H05K7/20;

  • 国家 BR

  • 入库时间 2022-08-21 13:40:18

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