СПОСІБ ФОРМУВАННЯ ПОКРИТТЯ НА МЕТАЛЕВІЙ ПОВЕРХНІ ЗА ДОПОМОГОЮ ІОННО-ВАКУУМНОГО ПЛАЗМОВОГО НАПИЛЕННЯ

摘要

Спосіб формування покриття на металевій поверхні за допомогою іонно-вакуумного плазмового напилення, при якому поверхню металевої деталі очищають. Після очищення металеву деталь розміщують в пристрої вакуумного напилення, заповненому робочим газом з тиском в межах 10…10Па, виконаному з можливістю генерації плазми в катодних мікроплівках вакуумної дуги, піддають іонному травленню шляхом обробки поверхні високоенергетичним потоком металізованої плазми з параметрами, що більш або дорівнює 1,0 кВ, або при середній енергії іонів від 1,5 до 3,0 кеВ, з подальшим формуванням покриття шляхом зменшення значення середньої енергії іонів в потоці за рахунок зниження потенціалу зміщення.