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ALUMINUM NITRIDE THIN FILM, METHOD FOR FORMING ALUMINUM NITRIDE THIN FILM, AND ELECTRODE MATERIAL

机译:氮化铝薄膜,形成氮化铝薄膜的方法以及电极材料

摘要

The purpose of the present invention is to provide an aluminum nitride thin film that has excellent chemical stability such as conductivity and corrosion resistance and excellent thermal conductive properties. This aluminum nitride thin film includes at least nitrogen and oxygen, and is characterized by being in a non-crystalline state and having conductivity.
机译:本发明的目的是提供一种氮化铝薄膜,其具有优异的化学稳定性,例如导电性和耐腐蚀性以及优异的导热性。该氮化铝薄膜至少包括氮和氧,并且特征在于处于非晶态并且具有导电性。

著录项

  • 公开/公告号WO2017134779A1

    专利类型

  • 公开/公告日2017-08-10

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 EAMEX CORPORATION;

    申请/专利号WO2016JP53266

  • 发明设计人 ISHIZAKI HIROKI;

    申请日2016-02-03

  • 分类号C01B21/072;

  • 国家 WO

  • 入库时间 2022-08-21 13:30:10

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