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METHOD FOR FORMING SEMICONDUCTING POLYMER THIN FILMS USING SPIN COATING TECHNIQUES

机译:利用旋涂技术形成半导电聚合物薄膜的方法

摘要

More particularly, the present invention relates to a method of forming a semiconductor polymer thin film using spin coating, and more particularly, to a method of forming a thin film of a semiconductor polymer by spin coating a semiconductor polymer (for example, P3HT) Sec.) To induce a slow growth process associated with solidification of the semiconductor polymer in the thin film, thereby obtaining a uniform and highly crystalline thin film, and a semiconductor polymer thin film capable of greatly improving the electrical performance of the device employing the thin film A semiconductor polymer thin film formed by the method, and a field effect transistor (FETs) including the same.;
机译:更具体地,本发明涉及使用旋涂形成半导体聚合物薄膜的方法,更具体地,涉及通过旋涂半导体聚合物(例如,P3HT)Sec形成半导体聚合物薄膜的方法。 。)引起与薄膜中的半导体聚合物的固化相关的缓慢生长过程,从而获得均匀且高度结晶的薄膜,以及能够大大改善采用该薄膜的器件的电性能的半导体聚合物薄膜通过该方法形成的半导体聚合物薄膜以及包括该薄膜的场效应晶体管(FET)。

著录项

  • 公开/公告号KR101720425B1

    专利类型

  • 公开/公告日2017-03-28

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 인천대학교 산학협력단;

    申请/专利号KR20150116057

  • 发明设计人 나진영;박영돈;

    申请日2015-08-18

  • 分类号H01L21/02;H01L21/324;H01L51/00;H01L51/05;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-21 13:25:49

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