首页> 外国专利> Method of preparing Eu-doped ZnO transparent conductive film

Method of preparing Eu-doped ZnO transparent conductive film

机译:掺Eu的ZnO透明导电膜的制备方法

摘要

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an Eu doped ZnO transparent conductive film in an amorphous state, and a method for forming the same.SOLUTION: The Eu doped ZnO transparent conductive film is deposited by doping Eu in a ZnO film on a substrate by a sputtering method. The Eu doped ZnO transparent conductive film is preferably deposited while introducing HO vapor gas; the Eu doped concentration of the Eu doped ZnO transparent conductive film is preferably 13 at% or more; and the Eu doped ZnO transparent conductive film deposited in this manner is preferably annealed at a temperature of 400-450°C in a hydrogen gas atmosphere.SELECTED DRAWING: Figure 8
机译:解决的问题:提供非晶态的Eu掺杂的ZnO透明导电膜及其形成方法。解决方案:通过用溅射法将Eu掺杂在基板上的ZnO膜中来沉积Eu掺杂的ZnO透明导电膜。溅射法。优选在引入HO蒸气的同时沉积Eu掺杂的ZnO透明导电膜。 Eu掺杂的ZnO透明导电膜的Eu掺杂浓度优选为13at%以上。最好将这种方式沉积的Eu掺杂的ZnO透明导电膜在400-450°C的氢气气氛中进行退火。图8

著录项

  • 公开/公告号JP6294842B2

    专利类型

  • 公开/公告日2018-03-14

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 日本電信電話株式会社;

    申请/专利号JP20150011480

  • 发明设计人 赤澤 方省;

    申请日2015-01-23

  • 分类号C23C14/08;C23C14/34;H01B5/14;H01B13/00;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-21 13:09:14

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号