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Domain wall-based spin MOSFET and domain wall-based analog memory

机译:基于域壁的自旋MOSFET和基于域壁的模拟存储器

摘要

The domain wall utilizing spin MOSFET (100) includes a domain wall (DW), a first region (1a), a second region (1b), and a third region (1c) located between the first region and the second region. And a domain wall driving layer (1), a channel layer (5), and a first end (5aA) of the first surface of the channel layer, and disposed so as to be in contact with the third region of the domain wall driving layer. Between the magnetization free layer (6), the magnetization fixed layer (7) provided at the second end (5aB) opposite to the first end, and the first end and the second end of the channel layer. And a gate electrode (8) provided via a gate insulating layer (9).
机译:利用自旋MOSFET(100)的畴壁包括畴壁(DW),第一区域(1a),第二区域(1b)和位于第一区域和第二区域之间的第三区域(1c)。并且畴壁驱动层(1),沟道层(5)和沟道层的第一表面的第一端(5aA)被布置为与畴壁驱动的第三区域接触。层。在磁化自由层(6)之间,设置在与通道层的第一端相对的第二端(5aB)的第一端和第二端之间的磁化固定层(7)之间。栅电极(8)隔着栅绝缘层(9)设置。

著录项

  • 公开/公告号JPWO2017183574A1

    专利类型

  • 公开/公告日2018-08-16

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 TDK株式会社;

    申请/专利号JP20180513158

  • 发明设计人 佐々木 智生;

    申请日2017-04-14

  • 分类号H01L29/82;H01L21/8239;H01L27/105;H01L43/08;G11C11/16;G06N3/06;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-21 13:07:54

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