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Face material pattern finish simulation apparatus and face material pattern finish simulation method

机译:面材图案精加工模拟装置及面材图案精加工模拟方法

摘要

A surface material pattern finish simulation device includes: an incident light calculation unit (14) that calculates incident light information as information about incident light on each of pixels in the image of the finish of the pattern, from information including a normal vector map and light source information about a light source emitting light to be applied to the surface; a reflected light calculation unit (15) that calculates the radiance of reflected light from the surface for each of the pixels in the image of the finish of the pattern, from calculation information including the incident light information, the normal vector map, diffuse reflectance information in the picture, gloss information indicating the gloss of the surface of the surface material, and observation condition information about the surface material; and a display unit (18) that displays the image of the finish of the pattern on the surface of the surface material determined from the radiance of each of the pixels.
机译:表面材料图案光洁度仿真装置包括:入射光计算单元(14),其从包括法线矢量图和光的信息中计算入射光信息,作为关于图案光洁度图像中的每个像素上的入射光的信息。关于发射要施加到表面的光的光源的源信息;反射光计算单元(15),根据包括入射光信息,法线矢量图,漫反射率信息的计算信息,计算出图案结束图像中每个像素从表面反射的反射光的辐射度在图片中,光泽度信息指示表面材料表面的光泽度,以及关于表面材料的观察条件信息;显示单元(18),其在根据每个像素的辐射率确定的表面材料的表面上显示图案的完成图像。

著录项

  • 公开/公告号JP6252691B2

    专利类型

  • 公开/公告日2017-12-27

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 凸版印刷株式会社;

    申请/专利号JP20160565364

  • 发明设计人 阿部 敬由;高瀬 紘一;

    申请日2016-06-01

  • 分类号G06T15;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-21 13:07:10

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